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イネ葉におけるケイ素の局所分配に関与する輸送体

[著者]　Huang, S., Yamaji, N., Konishi, N., Mitani‐Ueno, N., and Ma, J. F.

[タイトル]　Symplastic and apoplastic pathways for local distribution of silicon in rice leaves

[掲載誌]　New Phytologist 247: 1280–1289 (2025)

[内容紹介]　ケイ素（Si）はイネの葉身と葉鞘の両方に高濃度に蓄積されているが、これら2つの組織間のケイ素の局所分配を媒介する輸送体は未だ同定されていなかった。我々はOsLsi6がその局所分配に関与することを解明した。OsLsi6は、葉身と葉鞘の大小両方の維管束の木部柔細胞に局在する。またOsLsi6の発現は、ケイ素の供給によって葉鞘では減少するが、葉身ではその影響を受けなかった。OsLsi6の遺伝子破壊は、葉身へのケイ素の分配を増加させ、葉鞘への分配を減少させた。また維管束を囲むメストーム鞘細胞は、葉鞘および葉身の大維管束においてスベリン化されていたが、葉身の小維管束ではスベリンされていなかった。本研究の結果は、ケイ素の局所分配において2つの経路が存在することを示している。すなわち、葉鞘および葉身の大維管束におけるOsLsi6依存性シンプラスト経路と、葉身の小維管束におけるアポプラスト経路である。(植物ストレス学グループ･馬　建鋒)。

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